一、采用偏焦標刻一定范圍的內容

因為每一個聚焦鏡都有對應的焦深范圍，而采用偏離焦點的辦法會容易導致光纖激光打標機大范圍標刻圖案時，邊緣處在焦深臨界點或者超出焦深范圍，這樣就比較容易造成效果的不均勻性。因此，偏焦標刻的方法須考慮激光能量的問題。

二、激光輸出光斑被遮擋，即激光光束經過振鏡及場鏡后光斑有缺，不夠圓

激光輸出頭、固定夾具與振鏡等未調好，導致激光經過振鏡頭時部分光斑被遮擋，經場鏡聚焦后在倍頻片上所呈現(xiàn)的光斑為非圓形，這樣也有可能會導致效果不均勻。

還有一種情況，即光纖激光打標機振鏡偏轉鏡片有損傷，當激光光束通過鏡片損傷區(qū)域時，無法很好地反射出去。因此，激光束經過鏡片損傷區(qū)域與鏡片無損傷區(qū)域激光能量有不一致，最終作用在材料上的激光能量也不一樣，從而使標刻效果不均勻。

三、熱透鏡現(xiàn)象

當激光通過光學鏡片（折射、反射）時，會使鏡片發(fā)熱產生細微的形變。這種形變會使激光聚焦焦點上升，焦距變短。若機臺固定，將距離調整到焦點處時，開激光一段時間后，會因為熱透鏡現(xiàn)象而使作用在材料上的激光能量密度發(fā)生變化，從而導致標刻效果不均勻。

四、光纖激光打標機機臺水平未調好，即激光振鏡頭或場鏡鏡頭與加工臺面不平行

由于二者不水平，會導致激光光束通過場鏡后到達加工物件上的距離長短不一致，最終激光落在加工物件上的能量會有不一致的能量密度，此時就會在材料上表現(xiàn)出效果的不均勻。

五、材料的原因，如材料表面的膜層厚度不一致或物理化學性質變化

材料對光纖激光打標機激光能量反應比較敏感。通常在同種材料下，激光能量達到材料破壞閾值是一定的。當材料鍍膜厚度不一，或有一些其他物理化學處理工藝不夠均勻時，同樣也會造成激光標刻后的效果的不均勻。